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耳機外牆外牆 隱應該養方,

文章作者:李之桃 上传时间:2019-08-31

鎘在半導體和SMD芯片電阻的製造中使用。通過吸入或食入進入人體。鎘對人體的危害屬於不可逆轉的一類,耳機因為它的半衰期很長,耳機約30年,可在體內蓄積,損傷肺部、腎髒和骨骼。

影響Carrousel氧化溝脫氮的主要因素是DO、外牆外牆硝酸鹽濃度及碳源濃度。研究表明,外牆外牆氧化溝內存在溶解氧濃度梯度即好氧區DO達到3~3.5mg/L,缺氧區DO達到0~0.5mg/L是發生硝化反應及反硝化反應的前提條件。同時,充足的碳源及較高的C/N比有利於脫氮的完成[7]。隱應4. Carrousel氧化溝存在的問題及解決方法

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盡管Carrousel氧化溝具有出水水質好、該養抗衝擊負荷能力強、該養除磷脫氮效率高、汙泥易穩定、能耗省、便於自動化控製等優點。但是,在實際的運行過程中,仍存在一係列的問題。耳機4.1 汙泥膨脹問題當廢水中的碳水化合物較多,外牆外牆N、外牆外牆P含量不平衡,pH值偏低,氧化溝中汙泥負荷過高,溶解氧濃度不足,排泥不暢等易引發絲狀菌性汙泥膨脹;非絲狀菌性汙泥膨脹主要發生在廢水水溫較低而汙泥負荷較高時。微生物的負荷高,細菌吸取了大量營養物質,由於溫度低,代謝速度較慢,積貯起大量高粘性的多糖類物質,使活性汙泥的表麵附著水大大增加,SVI值很高,形成汙泥膨脹。

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針對汙泥膨脹的起因,隱應可采取不同對策:隱應由缺氧、水溫高造成的,可加大曝氣量或降低進水量以減輕負荷,或適當降低MLSS(控製汙泥回流量),使需氧量減少;如汙泥負荷過高,可提高MLSS,以調整負荷,必要時可停止進水,悶曝一段時間;可通過投加氮肥、磷肥,調整混合液中的營養物質平衡(BOD5:N:P=100:5:1);pH值過低,可投加石灰調節;漂白粉和液氯(按幹汙泥的0.3%~0.6%投加),能抑製絲狀菌繁殖,控製結合水性汙泥膨脹[11]。該養4.2 泡沫問題

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由於進水中帶有大量油脂,耳機處理係統不能完全有效地將其除去,耳機部分油脂富集於汙泥中,經轉刷充氧攪拌,產生大量泡沫;泥齡偏長,汙泥老化,也易產生泡沫。用表麵噴淋水或除沫劑去除泡沫,常用除沫劑有機油、煤油、矽油,投量為0.5~1.5mg/L。通過增加曝氣池汙泥濃度或適當減小曝氣量,也能有效控製泡沫產生。當廢水中含表麵活性物質較多時,易預先用泡沫分離法或其他方法去除。另外也可考慮增設一套除油裝置。但最重要的是要加強水源管理,減少含油過高廢水及其它有毒廢水的進入[12]。

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